K&F Concept Filtro di protezione UV MC da 77 mm con telaio sottile e 18 rivestimenti blu multistrato (serie C)

Il filtro UV K&F Concept Nano-C HMC è un accessorio indispensabile per i fotografi che desiderano proteggere la propria attrezzatura e migliorare la qualità delle immagini. Con un diametro di 77 mm, questo filtro UV è progettato specificamente per obiettivi con filettatura corrispondente. Protegge la lente frontale da polvere, sporco e danni meccanici, prolungando così la vita dell'obiettivo. L'innovativa rivestimento HMC a 18 strati riduce i riflessi e i riverberi, portando a una riproduzione delle immagini più chiara e con un contrasto migliore. Il telaio ultrafine, con uno spessore di soli 3,3 mm, minimizza il rischio di vignettatura, anche nelle riprese grandangolari. Inoltre, il filtro viene fornito in una custodia protettiva in plastica, che garantisce un trasporto sicuro. Questo filtro è particolarmente vantaggioso per la fotografia paesaggistica, poiché riduce la foschia atmosferica e migliora la qualità dell'immagine.

• Vetro ottico giapponese di alta qualità per una qualità dell'immagine ottimale
• Telaio ultrafine per evitare la vignettatura
• Rivestimento HMC a 18 strati per ridurre i riflessi
• Protezione dai raggi UV per migliorare la fotografia
• Include custodia protettiva in plastica per il trasporto.