K&F Concept Filtro di protezione UV MC da 55 mm con telaio sottile e 18 rivestimenti blu multistrato (serie C)

Il filtro UV K&F Concept Nano-C HMC è un accessorio indispensabile per i fotografi che desiderano proteggere la propria attrezzatura e migliorare la qualità delle immagini. Con un diametro di 55 mm, questo filtro UV è progettato specificamente per obiettivi con filettatura corrispondente. Non solo protegge da polvere, sporco e impronte digitali, ma offre anche una protezione aggiuntiva contro i danni meccanici della lente frontale. Il rivestimento innovativo HMC a 18 strati riduce i riflessi e i riverberi, portando a un contrasto migliorato e a una maggiore chiarezza delle riprese. Il telaio ultrafine, con uno spessore di soli 3,3 mm, minimizza il rischio di vignettatura, anche nelle riprese grandangolari. Il filtro viene fornito in una custodia protettiva in plastica, che garantisce un trasporto sicuro e supporta la longevità del prodotto.

• Compatibile con filettature da 55 mm per un utilizzo versatile
• Protezione da polvere, sporco e impronte digitali
• Riduce riflessi e riverberi per immagini più chiare
• Telaio ultrafine per evitare vignettature
• Realizzato in vetro ottico giapponese di alta qualità.