K&F Concept Filtro di protezione UV MC da 49 mm con telaio sottile e 18 rivestimenti blu multistrato (serie C)

Il filtro UV K&F Concept Nano-C HMC è un accessorio indispensabile per i fotografi che desiderano proteggere al meglio la propria attrezzatura e migliorare la qualità delle immagini. Con un diametro di 49 mm, questo filtro UV è progettato specificamente per obiettivi con filettatura corrispondente. Non solo offre una protezione efficace da polvere, sporco e danni meccanici, ma riduce anche i riflessi e i riverberi grazie al suo rivestimento HMC a 18 strati. Questo rivestimento garantisce una maggiore chiarezza e contrasto nelle riprese, il che è particolarmente vantaggioso nella fotografia di paesaggio, poiché minimizza l'ottica atmosferica. Il telaio ultrafine, con uno spessore di soli 3,3 mm, previene la vignettatura e consente un utilizzo illimitato dell'obiettivo. Nella confezione è incluso anche un pratico astuccio in plastica protettivo, che garantisce la sicurezza del filtro durante il trasporto.

• Compatibile con filettature da 49 mm per un'ampia applicazione
• Protezione da polvere, sporco e impronte digitali
• Riduce la radiazione UV e migliora la qualità dell'immagine
• Realizzato in vetro ottico giapponese di alta qualità
• Telaio ultrafino per evitare la vignettatura.