K&F Concept Filtro di protezione UV MC da 62 mm con telaio sottile e 18 rivestimenti blu multistrato (serie C)

Il filtro UV K&F Concept Nano-C HMC è un accessorio indispensabile per i fotografi che desiderano proteggere le proprie lenti e migliorare la qualità dell'immagine. Con un diametro di 62 mm, questo filtro UV è progettato specificamente per obiettivi con filettatura corrispondente. Non solo protegge da polvere, sporco e impronte digitali, ma offre anche una protezione aggiuntiva contro i danni meccanici della lente frontale. L'innovativa rivestimento HMC a 18 strati riduce i riflessi e i riverberi, portando a un contrasto migliorato e a una maggiore chiarezza delle riprese. Il telaio ultraleggero, con uno spessore di soli 3,3 mm, minimizza il rischio di vignettatura, anche nelle riprese grandangolari. Il filtro viene fornito in una custodia protettiva in plastica, che garantisce un trasporto sicuro e supporta la longevità del prodotto.

• Compatibile con filettatura da 62 mm per un utilizzo versatile
• Protezione da polvere, sporco e impronte digitali
• Riduce la radiazione UV e migliora la qualità dell'immagine
• Ideale per la fotografia di paesaggi per eliminare l'azzurramento atmosferico
• Realizzato in vetro ottico giapponese di alta qualità.